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该课题组还采用NDI-N修饰其他高效率的活性层，发布包括PBDB-T:ITIC,DRTB-T:IDIC和PBDB-T:IT-M，发布所有器件的PCE均与文献报道的最高值相当，说明NDI-N是一种普适性的阴极界面层材料。在以往的研究报道中，大雾多条具有高结晶度的小分子材料在成膜过程中很容易形成大尺寸的聚集，从而在薄膜表面产生缺陷，损害器件的光电子性能。
在采用印刷工艺制备大面积器件的过程中，橙色会不可避免产生薄膜厚度不均匀的问题。高速关闭（d）30个NDI-N大面积器件的效率分布图。中国计量科学研究院（NIM）对该实验室制备的大面积（0.9 cm×0.9cm）器件进行了效率认证，段临最终的认证效率为12.20%。
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为了考察NDI-N作为阴极界面层对器件性能的影响，大雾多条该课题组还制备了单层器件。
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